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ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的研發投入，其采用行業前沿的創新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。 可應用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。 全自動變角、對焦技術，一鍵快速測量； 向導交互式人機界面，便捷的軟件操作體驗； 豐富的材料數據庫與算法模型庫，強大的

教學橢偏儀,Mapping系列光譜橢偏儀是全自動高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，配置全自動Mapping運動機構，通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現薄膜全基片的膜厚及光學參數自定義繪制化測量表征。

橢偏儀廠家的SE-VM光譜橢偏儀是一款高精度快速測量光譜橢偏儀,可實現科研/企業級高精度快速光譜橢偏測量，支持多角度、微光斑、可視化調平系統等高兼容性靈活配置，支持多功能模塊定制化設計。

國產橢偏儀,SE-VE光譜橢偏儀是一款高性價比快速測量光譜橢偏儀,緊湊集成化設計，操作簡便，一鍵快速測量和向導交互式人機界面，具有豐富的材料數據庫和算法模型庫、強大的數據分析能力。

針對微區圖形結構測量定制的專用型光譜橢偏儀

橢圓偏光儀,橢偏在線監測裝備針對LCD、OLED等新型平板顯示量產中所涉及的PI配向膜、光刻膠薄膜、ITO薄膜、有機發光薄膜、有機/無機封裝薄膜等質量控制需要，專門設計的在線薄膜測量系統。可適用于空氣、N2、真空等環境條件，自動實現玻璃基板上各種膜系結構厚度分布、光學常數分布的全片快速掃描測量。

紅外橢偏儀,SE-i光譜橢偏儀針對有機/無機鍍膜工藝研究的需要開發的原位薄膜在線監測中的定制化開發，可通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，橢偏測量頭快速實現光學薄膜原位表征分析

穆勒矩陣光譜橢偏儀,橢偏檢測機臺通過整體高度集成技術，實現不同橢偏測量模塊在線/離線式整體橢偏測量解決方案。